近期，国家知识产权局公布了华为的一项新专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”(CN115343915A)，与EUV(极紫外)光刻机有关。这无疑是一利好消息，外界纷纷猜测，华为这是要开始自研光刻机了？摆脱对ASML的依赖？ 图源：国家知识......